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FEI Apreo S LoVac場發射掃描電子顯微鏡隔振方案
ArisMD300主動隔振系統
背 景：應用于高品質成像與高級分析的場發射掃描電子顯微鏡成像檢測，是研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺。
使用單位：廈門稀土材料研究所
地 點：福建省廈門市集美區兌山西珩路258號
儀器型號：FEI Apreo S LoVac
隔振方案：ArisMD300主動隔振系統
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| FEI Apreo S LoVac場發射掃描電子顯微鏡ArisMD300主動隔振系統應用安裝圖 | |
成像測試：
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Apreo S 電鏡掃描圖像65萬倍對比（安裝ArisMD300前后） | |
